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    半导体制造业所需的特殊气体打印此页半导体制造这个行业您了解吗？如果不了解的话可以看看下面的介绍。半导体制造业所使用的不同特种气体大致可以分为五大类：(1)易燃性气体：自燃、易燃、可燃气体等都定义为这类气体。如常温下的SiH4气体只要与空气接触就会燃烧，当环境温度达到一定情况下，PH3与B2H6等气体也会产生自燃。可燃易燃气体都有一定的着火燃烧范围，即上限、下限值。此范围越大的气体引起燃烧危险性就越高，如B2H6的上限为98%，下限为。属于易燃气体有H2、NH3、PH，、DCS、CIF3等等。(2)毒性气体：半导体制造行业中使用的气体很多都是对人体有害、0的。其中又以AsH3、B2H6、PH3等气体的毒性比较大。这些气体在工作环境中的允许浓度极微，因此在贮存、输送以及使用的过程中都要求特别的小心。一般都应该采取特定的技术措施来控制使用这些气体。NO、C4F6等都属于毒性气体。(3)腐蚀性气体：这些腐蚀性气体通常同时也兼有较强的毒性。腐蚀性气体在干燥状态下一般不易侵蚀金属，但在遇到水的环境下就显示很强的腐蚀性，如HCI、HF、CIF3等。(4)惰性气体:这些气体本身一般不会直接对人体产生伤害，在气体传输过程中。

氮气在生活中还有很多的用途，化合物制造：化肥、氨、硝酸等化合物的制造；2、惰性保护：惰性保护介质，速冻食品； 3、制冷剂：低温粉碎等的制冷剂、冷却剂；4、电子工业：电子工业中的外延、扩散、化学气相淀积、离子注入、等离子干刻、光刻等；5、标准物：用作标准气、校正气、零点气、平衡气，氮是合成氨的主要原料。氨合成所需的氮无需分离和提纯，直接来源于空气。在氨合成气的生产过程中，空气中的氧与碳氢化合物原料进行高温催化反应，经变换、脱碳、甲烷化等工序，生成以氢为主含少量甲烷、微量一氧化碳和二氧化碳的混合气，空气中的氮和氩不参与反应，直接进入合成气，从而获得以氢和氮为主的氨合成气。由于氨合成中，氧、一氧化碳、二氧化碳易使合成催化剂中素毒，甲烷和氩系合成惰性物质，大量积累会降低合成效率，采用液氮洗涤工艺净化合成气，可以延长催化剂使用寿合，提高氨合成效率。西宁市氧气气体供应。

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