云南代理英飞凌infineonIGBT模块推荐货源 江苏省芯钻时代电子科技供应 江苏省芯钻时代电子科技供应

    将igbt模块中双极型三极管bjt的集电极和绝缘栅型场效应管mos的漏电极断开，并替代包含镜像电流测试的电路中的取样igbt，从而得到包含无栅极驱动的电流检测的igbt芯片的等效测试电路，即图5中的igbt芯片结构，从而得到第二发射极单元201和第三发射极单元202，此时，bjt的集电极单独引出，即第二发射极单元201，作为测试电流的等效电路，电流检测区域20只取bjt的空穴电流作为检测电流，且，空穴电流与工作区域10的工作电流成比例关系，从而通过检测电流检测区域20中的电流即可得到igbt芯片的工作区域10的电流，避免了现有方法中栅极对地电位变化造成的偏差，提高了检测电流的精度。此外，在第1表面上，电流检测区域20设置在工作区域10的边缘区域，且，电流检测区域20的面积小于工作区域10的面积。此外，igbt芯片为沟槽结构的igbt芯片，在电流检测区域20和工作区域10的对应位置内分别设置多个沟槽，可选的，电流检测区域20和工作区域10可以同时设置有多个沟槽，或者，工作区域10设置有多个沟槽，本发明实施例对此不作限制说明。以及，当设置有沟槽时，在每个沟槽内还填充有多晶硅。此外，在第1表面和第二表面之间，还设置有n型耐压漂移层和导电层。

    不论漏极-源极电压VDS之间加多大或什么极性的电压，总有一个pn结处于反偏状态，漏、源极间没有导电沟道，器件无法导通。但如果VGS正向足够大，此时栅极G和衬底p之间的绝缘层中会产生一个电场，方向从栅极指向衬底，电子在该电场的作用下聚集在栅氧下表面，形成一个N型薄层(一般为几个nm)，连通左右两个N+区，形成导通沟道，如图中黄域所示。当VDS＞0V时，N-MOSFET管导通，器件工作。了解完以PNP为例的BJT结构和以N-MOSFET为例的MOSFET结构之后，我们再来看IGBT的结构图↓IGBT内部结构及符号黄块表示IGBT导通时形成的沟道。首先看黄色虚线部分，细看之下是不是有一丝熟悉之感？这部分结构和工作原理实质上和上述的N-MOSFET是一样的。当VGE>0V，VCE>0V时，IGBT表面同样会形成沟道，电子从n区出发、流经沟道区、注入n漂移区，n漂移区就类似于N-MOSFET的漏极。蓝色虚线部分同理于BJT结构，流入n漂移区的电子为PNP晶体管的n区持续提供电子，这就保证了PNP晶体管的基极电流。我们给它外加正向偏压VCE，使PNP正向导通，IGBT器件正常工作。这就是定义中为什么说IGBT是由BJT和MOSFET组成的器件的原因。此外，图中我还标了一个红色部分。

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