日本东宇食品用氮气发生器报价 东宇供应

氮气发生器以品质良好的进口碳分子筛（CMS）为吸附剂，氮气发生器采用常温下变压吸附原理（PSA）分离空气制取高纯度的氮气。应用： LCMS（液相色谱仪） GC（气相色谱） 产业 （食物,电子,化工等等) 制氮机系统原理编辑 氧、氮两种气体分子在分子筛表面上的扩散速率不同，直径较小的气体分子（O2）扩散速率较快，较多的进入碳分子筛微孔，直径较大的气体分子（N2）扩散速率较慢，进入碳分子筛微孔较少。利用碳分子筛对氮和氧的这种选择吸附性差异，导致短时间内氧在吸附相富集，氮在气体相富集，如此氧氮分离，在PSA条件下得到气相富集物氮气。 日本东宇机电致力于提供氮气发生器，有需求可以来电购买氮气发生器！日本东宇食品用氮气发生器报价

中小型的氮气发生器目前主要分为膜式、变压吸附式(分子筛)、电解水式等三种形式。电解水式的优点是体积小、纯度高、成本低。缺点是电解池容易失效，高纯度就能维持半年到一年。膜分离式的优点是价格低、体积轻巧、成本低，缺点是纯度较低(97%以下)，膜需更换。变压吸附式的优点是纯度高(97~99.999%)、纯度稳定，维保费用低。缺点是技术门槛高，做不好的厂家分子筛会有粉化需更换的问题、体积较膜分离式的高。三种氮气发生器各有不同的优缺点，需依照自己的预算及纯度需求选择。国产SCIEX氮气发生器原理氮气发生器，就选日本东宇机电，用户的信赖之选，有想法的不要错过哦！

激光切割主要使用的辅助气体有氧气、氮气两种切割方式。在氧气切割时，氧气参与燃烧，断面可能会较粗糙，且氧化反应增大的热影响区，切割质量相对氮气切割会较差，可能出现切缝宽、断面斜纹、表面粗糙度差及焊渣等质问题。氮气切割中，氮气的惰气可避免过多的氧化反应，熔点区域温度相对氧切割较低; 加上氮气的冷却保护作用，反应较平稳均匀，切割断面较为光滑，表面粗糙度低，而且无氧化层。氧气切割主要应用于碳钢。氮气切割适合铝、黄铜、不锈钢等。激光切割因为是高温反应，需要极高的氮气纯度99.999%以上，目前国内技术需要加碳或加氢纯化; 日本东宇的制氮机可不经过纯化器，即可直接达到符合使用要求的99.999%高纯氮气。

液质联用中除了样品处理问题、氮气的纯度也是很重要的影响因素，却往往被忽视。膜式的发生器轻巧好用且价格便宜，但是实际供应纯度就有95-96%，且1-3年后纯度即会递减至93%左右。目前多数使用者因为只关心压力达到100psi，就以为氮气没问题。实际上纯度可能早已不足，并且持续污染质谱，导致常常在质谱的毛细管严重氧化，或者仪器灵敏度下降、离子源、碰撞池被严重污染时，才会发现氮气纯度不足问题。建议用户在日常实验时便要多关注氮气纯度，以免纯度灵敏度不足，影响到实验时才发现，需花大钱维修质谱。氮气发生器，就选日本东宇机电，让您满意，欢迎您的来电哦！

膜分离制氮高压空气通过中空纤维膜组件，氮气分子和氧气分子的扩散速度差别积累，在膜组件输出端形成高纯度的氮气，形成的产品气纯度高可达99%，气体流量>5000ml/min，并且可以累加使用，不影响产品质量，在不考虑其它限制条件的情况下，气体装置可以无限扩充。这种制氮方法膜分离制氮在工业上有不少的应用，在实验室主要用于对气体纯度要求不特别高的吹扫、保护、对氧气的置换等。​这类发生器可根据需要，调节氮气的纯度和流量，高可生产99.999%的氮气产品，流量可从几百毫升到几十升到几立方每分钟，纯度大小配置灵活，可根据每个需求具体定制，技术难点主要是分子筛柱填装技术，分子筛填装不好，会造成分子筛在气体高低压频繁变化中互相摩擦碰撞粉化，微孔数量减少，分子筛性能急剧降低。日本东宇机电为您提供氮气发生器，有需要可以联系我司哦！国产SCIEX氮气发生器原理

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在气相色谱仪中可以做为载气的气体其种类较多，如:氮、氦、氢、氩等。目前国内实际应用较多的是氮气和氢气。氦气虽然有其独特的特点，鉴于国内来源缺乏，成本又高，一般很少应用。(1〉氢气:由于安具有分子量小，分子半径大，热导系数大，粘度小等特点，因此在使用TCD 时常采用它作载气。在 FID中它是必用的燃气。氢气的来源目前除氢气高压钢瓶外，还可以采用电解水的氢气发生器，氢气易燃易爆，使用时，应特别注意安全。(2〉氮气:由于它的扩散系数小，柱效比较高，致使除TCD外，在其他形式的检测器中，多采用氮气作载气。它之所以在TCD 中用的较少，主要因为氮气热导系统小，灵敏度低，但在分析H,时，必须采用N,作载气，否则无法用TCD解决H的分析问题。日本东宇食品用氮气发生器报价