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针对氧化铝陶瓷圆盘双面平行度的要求，选择了一台圆台平面磨床磨削工件平面。针对氧化铝陶瓷盘的表面粗糙度要求，采用金刚石颗粒固定磨料对氧化铝陶瓷盘的平面进行抛光，抛光作为蕞终加工工序。抛光工艺选择了固定磨料的抛光形式，解决了游离磨料在研磨抛光过程中暴露出来的缺点。固定磨料是松散磨料的固结，它可以在研磨抛光机上高速研磨和抛光工件。在陶瓷盘的平面加工工艺中，除了圆台表面磨床、平面磨削和平面抛光的步骤外，还在被加工表面附着一层保护膜，从而在被加工零件的后续加工或保存过程中保护被加工零件的加工表面的完整性，避免因擦伤和磨粒污染而对被加工零件的表面造成擦伤和损伤。处理和测试总是不可分割的。为了确定工件是否满足加工质量精度的要求，需要相应的测量仪器进行测量，测量结果作为工件加工过程中的数据反馈和加工表面的确认。针对氧化铝陶瓷板的加工质量要求，用数字千分尺测量陶瓷板加工零件的平行度，用表面粗糙度测量仪测量氧化铝陶瓷板平面的表面粗糙度，用激光平面干涉仪测量氧化铝陶瓷板平面的表面形状。由此可知，氧化铝陶瓷盘的平面加工工艺可以实现氧化铝陶瓷盘的平面度优于5个孔径，陶瓷盘两侧的平行度小于等于2um。温州市百诚研磨机械有限公司为您提供 研磨机，欢迎您的来电哦！温州精密研磨机销售厂家

研磨机是机械密封制造行业中使用的研磨设备。它由床身、底座、减速箱体、研磨盘、控制环(亦称挡圈或修正环)、限位支承架等组成。其传动机构如图9-33所示。自动震动研磨机厂家介绍到研磨时，工件放在控制环内，用塑料隔离环把工件均匀排布在控制环内，通过压重施加研磨压力，当研磨盘旋转时控制环在限位支承架内旋转，工件除了自转外还随同控制环在研磨盘上公转，在磨料作用下，不断研磨表面。重块式平面研磨机这是一种单面研磨机(见图9-35)，采用压重来施加研磨压力，控制环共有3个研磨剂采用人工加入，研磨工件加压采用上件上加重块方式，操作人员体力消耗大。一般用于中型密封环的研磨加工，是一种使用较多的研磨机。其主要技术参数为：大研削工件直径:240mm。工件薄厚度:1mm。工件加工精度平面度0.03μm，粗糙度Ra0.05μm。研磨盘直径650mm，转速10~60r/min，无极变速，电动机功率1.5~2.2kW。控制环直径X内圈直径:280mmX240mm。外形尺寸(长X宽X高):900mmX1000mmX800mm。质量：1200kg。温州高精度平面研磨机销售厂家温州市百诚研磨机械有限公司致力于提供研磨机，有想法的不要错过哦！

研磨机又称震动研磨机，通过工件与石子等研磨料摩擦减少工件表面毛刺、边刺的打磨方式，多为滚筒式式外形设计。适用于中小尺寸工件的表面抛光、倒角、去除毛边、磨光、光泽打光处理，处理后不破坏零件的原有形状和尺寸精度，可消除零件内部应力，并提高了零件表面光洁度、精度。例如，目前**常用的有佛珠、小型压铸件、螺丝帽等产品的表面初步处理，都需要用到这种震动研磨机。顾名思义研磨机是对产品表皮的杂质和毛刺进行处理达到光滑效果。

平面抛光机的抛光工艺是利用自由散粒磨料在工件被加工面及磨盘基面上相对运动，使工件表面变得非常高的平整度及光滑度，工件固定不需要强夹、真空、磁铁，只是自然地放置在磨盘上，基本上能适合加工任何金属和非金属材料的工件，镜面研磨机没有了强制性的装夹及一般磨床的刚性磨削，减少的了冲击及发热产生的次生变形，更用利于高精度和高光洁度的加工。即使一个没有经验的操作员也可以轻易使用镜面研磨机获得0.2um的平面度及Ra0.02um粗糙度。平面抛光机主要用于硅片、砷化镓片、陶瓷片、石英晶体、光电玻璃及其他硬脆材料的双面高精度研磨、抛光。通过控制器，产生高频电振动传输至换能器上。换能器再将输入的超音频电信号转换成机械振动，经地变幅杆放大后，传输至装在变幅杆上的工具头上，再带动附着在工具头上的金刚石或磨料的悬浮液等高速磨擦工件，致使工件表面粗糙度迅速降低，直至镜面，从而实现抛光的功能。温州市百诚研磨机械有限公司 研磨机获得众多用户的认可。

平面磨削零件的其他夹紧方法磨削键、垫圈、薄壁套筒等小尺寸薄壁零件时，零件与工作台接触面积小，吸力弱，磨削力容易弹出，会造成事故。因此，在夹紧这些零件时，必须在工件周围或两端使用铁栅栏来防止工件移动。研磨方法磨削平面大多在平面磨床上进行，其工艺特点与磨削外圆和内圆相同。砂轮旋转是主要的运动，并且相对于工件进行纵向和横向进给运动。平面磨削分为两种基本形式：周磨磨削和端面磨削。周磨的特点是利用砂轮的圆周面进行磨削，工件与砂轮的接触面积小，发热少，排屑和冷却好，加工精度高，质量好。然而，该效率较低，并且适用于容易翘曲和变形的工件。普遍用于单件和小批量生产。温州市百诚研磨机械有限公司致力于提供 研磨机，有想法的不要错过哦！温州高速双面研磨机厂家直销

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机械抛光靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后凸部而得到平滑面抛光方法，一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工操作为主，特殊零件如回转体表面，可使用转台等辅助工具。化学抛光让材料化学介质表面微观凸出部分较凹部分优先溶解，从而得到平滑面。这种方法主要优点不需复杂设备，可以抛光形状复杂工件，可以同时抛光很多工件，效率高。化学抛光重要问题抛光液配制。电解抛光基本原理与化学抛光相同，即靠选择性溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，可以消除阴极反应影响，效果较好。电化学抛光过程分为两步：①宏观整平溶解产物向电解液扩散，材料表面几何粗糙下降②微光平整阳极极化，表面光亮度提高温州精密研磨机销售厂家